Seit über 10 Jahren beschäftigt sich IOT mit der Entwicklung
kundenspezifischer Plasma- und Ionenstrahlanlagen für die
Dünnschicht- und Oberflächentechnik und als Besonderheit auch
spezielle Plasmaanlagen für die
Plasma-Immersions-Ionenimplantation (PIII, PIIID).
Die IOT ist dabei Hersteller gesamter Anlagen inklusive
einer Prozessentwicklung sowie Systemlieferant einzelner
Baugruppen, den Plasma- und Ionenstrahlquellen.
Eine PIIID-Anlage sowie eine Vakuumanlage mit
verschiedenen Ionenstrahlquellen betreibt die IOT im eigenen
Entwicklungslabor in Leipzig. Interessierten Kunden stehen damit
umfangreiche Möglichkeiten zur Verfügung, um Versuche und Tests
zusammen mit der IOT durchzuführen. Die Ionenstrahlquellen
können genauso für Versuchsreihen beim Kunden gemietet werden.
Zuerst wird das Volumen des Edelstahlbehälters evakuiert,
anschließend ein spezielles Prozessgas eingelassen, allerdings
bei stark verdünntem Druck (ca. um einen Faktor 10.000 geringer
sind als der normale Luftdruck). Durch Energieeinkopplung
mittels einer Plasmaquelle wird ein Niederdruckplasma gezündet,
welches über selektive Heizung der Elektronen erhalten wird.
Die IOT verfügt über Plasmaquellen
- mit Mikrowellenanregung unter Ausnutzung des
Elektronen-Zyklotron-Resonanz-Effektes (ECR),
- mit Anregung in einem HF-Feld bei 13,56 MHz (HF-
Anregung)
- mit Anregung von Elektronen aus einer Glühkatode in
einem Gleichspannungsfeld (DC-Anregung)
Ionenstrahlquellen sind nichts anderes als
Niederdruckplasmen in einem separaten galvanisch entkoppelten
Entladungsgefäß, welches einseitig mit einer teiltransparenten
Ionenoptik abgeschlossen ist. Durch Anlegen von zusätzlichen
elektrischen Potentialen werden die Ionen aus dem Plasma des
Entladungsgefäßes herausgezogen und gezielt beschleunigt.
Die IOT bietet Prozessentwicklungen, Kleinserienfertigung und
Lohnbehandlung in den eigenen Plasmaanlagen an, sowie die
Vermietung von Plasma- und Ionenstrahlquellen:
- PIIID-System, Typ ISA (Volumen 500 l, mehrere
Prozessgaskanäle, Pumpleistung 1000 l/s) – geeignet für
Plasmabehandlung und Plasma-Immersions-Ionenimplantation bis
zu 22 kV, auch in Kombination mit einem 3“-Sputtermagnetron
(DC-Mode/ gepulster DC-Mode) als PIIID-System
- Ionenstrahltestanlage (Volumen 850 l, mehrere
Prozessgaskanäle, Pumpleistung 2000 l/s) – geeignet für
Plasmabehandlung und Ionenquellenbetrieb
- Plasmaquelle ECR/F150, Ionenquelle RF/I40, lineare
Ionenstrahlquelle ECL600
Plasmabehandlung kleiner und großflächiger Substrate,
Plasmareinigung, Plasmaaktivierung,
Plasma-Immersions-Ionenimplantation (PIII),
Plasma-Immersions-Ionenimplantation Deposition (PIIID),
Ionenstrahlätzen (IBE, IBF), reaktives Ionenstrahlätzen (RIBE,
CAIBE), Ionenstrahlsputtern.
- Anlagenbau
- Anlagenvermietung
- kundenorientierten Prozessentwicklung und
–optimierung
- Kleinserienfertigung
- Lohnbehandlung von großen Chargen im kontinuierlichen
Mehrschichtbetrieb
