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Une des spécialités de IOT:
  • Des solutions personnalisées pour des équipements à plasma ou faisceaux d'ions, pour des applications dans les domaines des revêtements de surfaces et de couches très fines.
Et comme particularité:
  • Des équipements à plasma PIII (Plasma-Immersions-Ionenimplantation), également en combinaison avec des sources de pulvérisation pour un revêtement simultané (PIIID).

Nous développons et construisons les équipements, et nous conseillons et accompagnons nos clients pour les tests et essais préliminaires avec nos propres installations jusqu'à une optimisation du processus souhaité.  Ainsi nos clients peuvent pleinement profiter de l'étendue des possibilités avec des essais préliminaires dans un processus personnalisé selon les souhaits du client avec les équipements plasma et faisceaux d'ions dans notre propre laboratoire de développement à Leipzig.

 

  • Appareils avec un volume de 500 à 1500 l
  • Pompes turbo en combinaison avec un tige rotative ou pompe roots
  • Sources de plasma sans filaments (ECR ou RF)
  • Contrôle du système personnalisé (Manuel; SPS avec LabVIEW et interface PC avec clavier et souris, enregistrement des données, commande de la composition/recette programmable; SIEMENS S7 avec écran tactile)

Depuis plus de dix ans IOT travaille au développpement de systèmes à plasma et à faisceaux d'ions pour les techniques de traitement de surfaces et de couches très fines. Nous avons en particulier développé les systèmes PIII et PIIID, pour l'immersion de plasma et l'implantation d'ions (Plasma-Immersions-IonenImplantation).

IOT met au point des projets clé en main (conception, fourniture, construction, installation), et peut également fournir des modules individuels tels que les sources de plasma et faisceaux d'ions.

IOT exploite un système PIIID ainsi qu'un système à vide avec diverses sources de faisceaux d'ions dans son propre laboratoire de développement à Leipzig. Les clients intéressés ont ainsi de vastes possibilités d'effectuer leurs essais et expérimentations avec le personnel d'IOT et chez IOT. Les sources de faisceaux d'ions peuvent également être louées par le client afin d'effectuer ces tests chez lui.

Tout d'abord on évacue le volume du récipient en acier inoxydable, celui-ci est mis sous vide, puis on introduit un gaz afin d'effectuer un traitement, avec une pression fortement réduite (environ 10.000 fois inférieure à la pression atmosphérique normale).  Un plasma à basse pression est allumé, lequel est obtenu à partir d'un chauffage sélectif d'électrons.
 
  IOT dispose de sources de plasma :
  • avec stimulation de micro-ondes en utilisant l'effet de résonance cyclotron électronique (ECR),
  • avec stimulation dans un champ de hautes fréquences à 13,56MHz (stimulation HF)
  • avec la stimulation d'électrons à partir d'une cathode dans un champ de courant continu (stimulation courant continu DC)

Les sources de faisceaux d'ions ne sont rien de plus que des plasmas à faible pression dans une enceinte de décharge découplée galvaniquement séparée, qui est fermée d'un côté avec une séparation ionique semi-transparente.  Par l'application d'un potentiel électrique supplémentaire, les ions sont extraits du plasma de l'enceinte à décharge et accélérés de manière ciblée.

 

 
IOT propose le développement de procédés, la production de petites séries et la formation dans nos systèmes de plasma, et également la location de sources de plasma et faisceaux d'ions:

  • PIIID-Système, de type ISA (Volume 500 l, plusieurs canaux à gaz, performance de la pompe 1000 l/s) – adapté pour le maniement de plasma et l'immersion de plasma - implantation d'ions jusqu'à 22 kV, aussi en combinaison avec un Sputtermagnetron 3" (mode DC/Mode DC propulsé) en tant que PIIID système
  • équipement de test de  faisceaux d'ions (Volume 850 l, plusieurs canaux à gaz, performance de la pompe 2000 l/s) – adapté pour le maniement de plasma et l'utilisation de sources d'ions.
  • Source de plasma ECR/F150, Source d'ionsRF/I40, Source de faisceaux d'ions linéaire ECL600
Le traitement par plasma de substrats de petites ou larges surfaces, le nettoyage au plasma, l'activation au plasma, L'immersion de plasma - implantation d'ions (PIII), l'immersion de plasma - dépôt d'implantation d'ions (PIIID), gravure par faisceau d'ions (IBE, IBF), réactif de gravure par faisceau d'ions (RIBE, CAIBE), pulvérisation par faisceau d'ions.
 
  • Construction et montage des équipements
  • Location des équipements
  • Développement et optimisation personnalisés en fonction des souhaits du client
  • Production de petites séries
  • Pour les grosses charges/commandes, travail en équipes continu, bonne productivité

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