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Eine Spezialität der IOT sind
  • kundenspezifische Einzellösungen spezieller Plasma- und Ionenstrahlanlagen für den Einsatz in der Dünnschicht- und Oberflächentechnik
und als Besonderheit
  • Plasmaanlagen für die Plasma-Immersions-Ionenimplantation (PIII) auch in Kombination mit Sputterquellen zur gleichzeitigen Beschichtung (PIIID).

Neben dem eigentlichen Anlagenbau begleiten wir unsere Kunden von Vorversuchen und Tests in den IOT-eigenen Anlagen bis zur Prozessentwicklung und -optimierung. Hierbei profitieren die IOT-Kunden von den Möglichkeiten umfangreicher Vorversuche und einer maßgeschneiderten Prozessentwicklung in einer der vorhandenen Plasma- und Ionenstrahlanlagen im IOT-eigenen Entwicklungslabor in Leipzig.

  • Anlagen mit einem Volumen von 500 … 1500 l
  • Turbopumpen in Kombination mit Drehschieber- oder Rootspumpen
  • Filamentfreie Plasmaquellen (ECR oder HF)
  • Kundenspezifische Steuerung (manuell; SPS mit LabVIEW und PC-Oberfläche via Tastatur und Mouse, Datenlogging, programmierbare Rezeptsteuerung; SIEMENS S7 mit Touchpanel)

Seit über 10 Jahren beschäftigt sich IOT mit der Entwicklung kundenspezifischer Plasma- und Ionenstrahlanlagen für die Dünnschicht- und Oberflächentechnik und als Besonderheit auch mit speziellen Plasmaanlagen für die Plasma-Immersions-Ionenimplantation (PIII, PIIID).

Die IOT ist dabei Hersteller gesamter Anlagen inklusive einer Prozessentwicklung sowie Systemlieferant einzelner Baugruppen, den Plasma- und Ionenstrahlquellen.

Eine PIIID-Anlage sowie eine Vakuumanlage mit verschiedenen Ionenstrahlquellen betreibt die IOT im eigenen Entwicklungslabor in Leipzig. Interessierten Kunden stehen damit umfangreiche Möglichkeiten zur Verfügung, um Versuche und Tests zusammen mit der IOT durchzuführen. Die Ionenstrahlquellen können genauso für Versuchsreihen beim Kunden gemietet werden.

Zuerst wird das Volumen des Edelstahlbehälters evakuiert, anschließend ein spezielles Prozessgas eingelassen, allerdings bei stark verdünntem Druck (ca. um einen Faktor 10.000 geringer sind als der normale Luftdruck). Durch Energieeinkopplung mittels einer Plasmaquelle wird ein Niederdruckplasma gezündet, welches über selektive Heizung der Elektronen erhalten wird.
 
Die IOT verfügt über Plasmaquellen
  • mit Mikrowellenanregung unter Ausnutzung des Elektronen-Zyklotron-Resonanz-Effektes (ECR),
  • mit Anregung in einem HF-Feld bei 13,56 MHz (HF- Anregung)
  • mit Anregung von Elektronen aus einer Glühkatode in einem Gleichspannungsfeld (DC-Anregung)

Ionenstrahlquellen sind nichts anderes als Niederdruckplasmen in einem separaten galvanisch entkoppelten Entladungsgefäß, welches einseitig mit einer teiltransparenten Ionenoptik abgeschlossen ist. Durch Anlegen von zusätzlichen elektrischen Potentialen werden die Ionen aus dem Plasma des Entladungsgefäßes herausgezogen und gezielt beschleunigt.

Die IOT bietet Prozessentwicklungen, Kleinserienfertigung und Lohnbehandlung in den eigenen Plasmaanlagen an, sowie die Vermietung von Plasma- und Ionenstrahlquellen:
  • PIIID-System, Typ ISA (Volumen 500 l, mehrere Prozessgaskanäle, Pumpleistung 1000 l/s) – geeignet für Plasmabehandlung und Plasma-Immersions-Ionenimplantation bis zu 22 kV, auch in Kombination mit einem 3“-Sputtermagnetron (DC-Mode/ gepulster DC-Mode) als PIIID-System
  • Ionenstrahltestanlage (Volumen 850 l, mehrere Prozessgaskanäle, Pumpleistung 2000 l/s) – geeignet für Plasmabehandlung und Ionenquellenbetrieb
  • Plasmaquelle ECR/F150, Ionenquelle RF/I40, lineare Ionenstrahlquelle ECL600
Plasmabehandlung kleiner und großflächiger Substrate, Plasmareinigung, Plasmaaktivierung, Plasma-Immersions-Ionenimplantation (PIII), Plasma-Immersions-Ionenimplantation Deposition (PIIID), Ionenstrahlätzen (IBE, IBF), reaktives Ionenstrahlätzen (RIBE, CAIBE), Ionenstrahlsputtern.
  • Anlagenbau
  • Anlagenvermietung
  • kundenorientierten Prozessentwicklung und –optimierung
  • Kleinserienfertigung
  • Lohnbehandlung von großen Chargen im kontinuierlichen Mehrschichtbetrieb

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