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IOT está especializada en proveer soluciones singulares adaptadas a las necesidades de cada cliente respecto de
  • instalaciones de plasma y haces de iones para su utilización en tecnologías de revestimiento de superficies y
  • equipos de implantación iónica por inmersión en plasma (PIII), también con deposición simultánea mediante pulverización catódica (PIIID).

Además de encargarnos de la construcción del equipo, realizamos pruebas previas en nuestras instalaciones y acompañamos al cliente durante todas las fases del desarrollo y de la optimización del proceso. De esta forma, nuestra clientela se beneficia de la posibilidad de efectuar ensayos extensos usando el laboratorio de desarrollo de IOT en Leipzig con sus plantas de plasma y haz de iones, lo que permite una adaptación precisa del proceso.

Ofrecemos:
  • Instalaciones con un volumen de entre 500 y 1500 litros
  • Bombas turbo en combinación con bombas rotativas de paletas o bombas Roots
  • Fuentes de plasma libre de filamentos (ECR o HF)
  • Control a medida (manual; SPS con LabVIEW e interfaz de computador con teclado y ratón, registro de datos, control de receta programable; SIEMENS S7 con panel táctil)

 

 

Desde hace más de diez años nos dedicamos a buscar la solución óptima para cualquier problema planteado por nuestros clientes en el ámbito de sistemas de plasma y haz de iones empleados en el revestimiento de superficies. Nuestra oferta incluye equipos de implantación iónica por inmersión en plasma.
IOT provee instalaciones completas y supervisa todo el desarrollo del proceso, pero también suministra componentes individuales, fuentes de plasma y de haces de iones.
Utilizamos una planta PIIID y un equipo de vacío con diferentes fuentes de haz de iones en nuestro propio laboratorio de desarrollo en Leipzig. Por lo tanto, nuestros clientes cuentan con la posibilidad de realizar amplias pruebas en cooperación con IOT. También existe la opción de alquilar fuentes de haz de iones para efectuar pruebas en la planta del cliente.

IOT dispone de fuentes de plasma
  • de microondas, aprovechando la resonancia ciclotrónica de electrones (ECR)
  • de alta frecuencia, excitada en un campo HF de 13,56 MHz
  • de corriente continua, excitada por electrones provenientes de un cátodo caliente en un campo DC
 
Utilizamos nuestros propios equipos de plasma para desarrollar sus procesos, para realizar su producción en serie a pequeña escala y para llevar a cabo sus encargos. También alquilamos instalaciones de plasma y de haces de iones:
  • Sistema PIII / sistema PIIID, tipo ISA (volumen de 500 litros, diversos canales de gas de proceso, rendimiento de la bomba de 1000 litros por segundo), adecuado para tratamiento con plasma o implantación iónica por inmersión en plasma, hasta 22 kV, a petición en combinación con pulverización catódica por magnetron (sputtering) de tres pulgadas (modo DC / modo DC pulsado)
  • Planta de haces de iones de prueba (volumen de 850 litros, diversos canales de gas de proceso, rendimiento de la bomba de 2000 litros por segundo), adecuado para tratamiento con plasma y operación cómo fuente de iones
  • Fuente de plasma ECR/F150, fuente de iones RF/140, fuente lineal de haz de iones ECL600
Aplicaciones:
 
Tratamiento de substratos de superficie pequeña o grande con plasma, limpieza con plasma, activación de superficies con plasma, implantación iónica por inmersión en plasma (PIII), implantación iónica por inmersión en plasma con deposición simultánea (PIIID), grabado iónico (IBE, IBF), grabado iónico reactivo (RIBE, CAIBE), pulverización catódica/sputtering

Nuestros servicios:
  • Construcción de instalaciones
  • Alquiler de instalaciones
  • Desarrollo y optimización del proceso según las necesidades del cliente
  • Producción en serie a pequeña escala
  • Realización de encargos de lotes grandes (trabajo continuo)

Data sheets:


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